研磨関連製品
CMPスラリーの主要な用途
脆性材料の加工
厳格な精密加工プロセスにこそふさわしい、汚染低減を実現します。 原料の管理、クリーンルームでの分散プロセス、設備の工夫と維持管理により、半導体が最も嫌う重金属は勿論、殺菌などの生物不純物混入を測定不可能なまでに防いでいます。
▼半導体銅配線形成用(CMPスラリー)


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厳格な精密加工プロセスにこそふさわしい、汚染低減を実現します。 原料の管理、クリーンルームでの分散プロセス、設備の工夫と維持管理により、半導体が最も嫌う重金属は勿論、殺菌などの生物不純物混入を測定不可能なまでに防いでいます。
▼半導体銅配線形成用(CMPスラリー)
